高純臭氧提供系統(tǒng)
1.工作條件：
工作溫度和濕度：工作溫度低于32攝氏度，對濕度無要求。
電力要求：要求抗振動，抗干擾。
場地要求：需要不大于8平方米的空間。
2. 設(shè)備用途：
2.1 擬購的高純臭氧提供系統(tǒng)作為氧化物分子束外延系統(tǒng)和激光分子束外延系統(tǒng)的重要組成部分，用于為氧化物分子束外延系統(tǒng)和激光分子束外延系統(tǒng)提供高活性氧來源。
3. 技術(shù)規(guī)格：
3.1 臭氧發(fā)生和存儲系統(tǒng)
3.1.1 配備臭氧發(fā)生器，輸入電壓220V/50Hz。
3.1.2優(yōu)先考慮臭氧發(fā)生裝置單次 很大供氣量大于2g的投標。
3.1.3 具有束流控制系統(tǒng)。
3.1.4具有臭氧泄漏檢測系統(tǒng)。
*3.1.5氣路采用耐臭氧材質(zhì)，系統(tǒng)漏率好于1.0E-8 mbar•L/s。
3.1.6優(yōu)先考慮冷卻系統(tǒng)用液氮容器，且?guī)в型敢暣翱诘耐稑恕?/div>
3.1.7優(yōu)先考慮冷凝器內(nèi)置壓力探測器及爆炸監(jiān)測裝置的投標。
3.2. 臭氧注入系統(tǒng)
*3.2.1與真空設(shè)備生長腔兼容。
*3.2.2臭氧供氣的氣壓范圍：1.0×10-6 Torr ~ 1 Torr；（主腔體積不大于10L，分子泵與主腔之間配有閥門，分子泵抽速大于300L/s的情況）
*3.2.3臭氧供氣的氣壓調(diào)節(jié)精度：5×10-7 Torr；（主腔體積不大于10L，分子泵與主腔之間配有閥門，分子泵抽速大于300L/s的情況）
3.2.4 定制主腔內(nèi)真空轉(zhuǎn)接配件與閥門
3.3 控制系統(tǒng)
3.3.1具有控制系統(tǒng)用于過程控制。
3.3.2控制系統(tǒng)具有人機操作界面，操作方便可靠。
4. 產(chǎn)品配置要求：
4.1 高純臭氧提供裝置主體 1臺
4.2 備件
4.2.1 1/2 VCR墊片 10個
4.2.2 1/4 VCR墊片
4.2.3 KF25卡箍及中心圈 2套
4.3 其它附屬設(shè)備 需用戶準備nXDS10iC或者nXDS6iC抗腐蝕干泵。
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